蝕刻，通常所指的是光化學(xué)蝕刻，指通過(guò)制版曝光、顯影后，將要蝕刻區(qū)域的保護(hù)膜去除，在蝕刻時(shí)使金屬接觸化學(xué)溶液，使用兩個(gè)陽(yáng)性圖形通過(guò)從兩面的化學(xué)研磨達(dá)到溶解腐蝕的作用，形成凹凸或者鏤空成型的效果，化學(xué)蝕刻是很有針對(duì)性的，是專指受控腐蝕，是金屬通過(guò)化學(xué)方法進(jìn)行一種可以控制的加工方法。

蝕刻分干蝕刻和濕蝕刻。干蝕刻技術(shù)又分為反應(yīng)離子蝕刻（RIE）、濺射蝕刻和氣相蝕刻。

蝕刻、沖壓工藝特點(diǎn)的相互比較中，蝕刻的優(yōu)勢(shì)在于樣品制作成本低、幾乎所有的金屬都在蝕刻范圍內(nèi)、金屬硬度上沒(méi)有限制、無(wú)刮花、無(wú)毛刺、設(shè)計(jì)上快速，簡(jiǎn)單，效率高、制程耗時(shí)48小時(shí)、材料厚度對(duì)公差的影響±10%、產(chǎn)品包裝，轉(zhuǎn)移極其方便。沖壓上制造成本高，盡管所有金屬都能進(jìn)行，但是在硬度太大、太小，容易碎的金屬都不可用、切割的邊緣上有刮痕、局部有毛刺、放在設(shè)計(jì)過(guò)程中如果改變工藝上非常耗時(shí)，成本高、制程耗時(shí)至少幾周、產(chǎn)品的包裝和轉(zhuǎn)移上比較困難。


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